Die hier vorgelegten experimentelle Ergebnisse zeigen die Herstellung von
schwarzem Siliziumzur Anwendung in Photodioden im Bereich zwischen 200 nm
und 800 nm durchPlasmabearbeitung. Berechnungen verschiedener
Nano-strukturgeometrien mit der Finite-Differenzen-Methode im Zeitbereich
(FDTD) werden…