Optimierung der Projektionsqualität für SLM-basierte holographische Lithographie auf nicht-planen Oberflächen

Einordnung

Konferenz:

DGaO-Jahrestagung ; 120 (Darmstadt) : 2019.06.11-15

Erschienen in:

DGaO-Proceedings
Bd. 120, 2019 (09.09.2019), art. P37

Band:

120, 2019

Datum der Erstellung:

30.10.2019

Datum der Veröffentlichung:

09.09.2019

PPN:

1677555610

URN:

urn:nbn:de:0287-2019-P037-6

Sprache:

Deutsch

Ressourcentyp:

Text

Umfang:

1 Seite

DDC-Sachgruppe der DNB:

530 Physik

Einrichtung:

Technische Universität Ilmenau, Fakultät für Maschinenbau