Interferenzlithografie mit gesteuerter Belichtungsverteilung

Burkhardt, Matthias; Steiner, Reinhard; Gatto, Alexandre; Sinzinger, Stefan GND

Die Interferenzlithografie stellt hohe Anforderungen an die Stabilität der Phasenlage der interferierenden Wellen. Eine Modifikation der räumlichen Intensitätsverteilung erscheint bei Berücksichtigung dieser Randbedingung als schwierig. Dennoch können wir zeigen, dass eine technologisch recht einfache Methode diese Bedingungen erfüllt.

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