Interferenzlithographie ist ein bekanntes Belichtungsverfahren zur Mikrostrukturierung optischer Elemente. Neben der schnellen Erzeugung hochaufgelöster Gitterstrukturen ist dabei die Möglichkeit der Strukturierung auf nicht ebenen Oberflächen von großem Interesse. Hierfür sind klassische Verfahren wie Photolithographie oder Elektronenstrahlschreiben nicht gut geeignet. Für die holographische Belichtung entwickeln wir einen kompakten Aufbau mit Hilfe einer Phasenmaske. Diese Belichtungseinheit sowie der als Lichtquelle genutzte 355nm ps-Laser sind in einem Ultrapräzisionsbearbeitungszentrum integriert, in dem auch eine mechanische Strukturierung der optischen Bauelemente erfolgt. Um homogene Lackschichten auf gewölbten Flächen zu erzielen, kommt bei der Beschichtung ein optimierter Spray-Coating Prozess zum Einsatz. Wir präsentieren das Konzept und die Umsetzung des Belichtungsaufbaus sowie erste Ergebnisse der Beschichtungs- und Belichtungsversuche auf optischen Freiformflächen.